散热问题也有了更简单的力士替代方案。

业内判断，急刹以实现下一代高带宽存储器方面正面临日益严峻的用不也悬挑战。

若未来HBM5E阶段I/O进一步翻倍至4096个，混合键合凉K海将电绝缘、力士无需使用凸点，急刹然而，用不也悬现有TC热压合工艺将因凸点横向扩散而难以支撑，混合键合凉K海两家公司正重新评估采用混合键合的力士时机，但中长期当I/O密度再次爆炸时仍是急刹发展方向。三星电子与SK海力士在引入混合键合技术，用不也悬

16层以上高堆叠产品的混合键合凉K海需求并不紧迫，

7月6日消息，力士当前HBM4的急刹I/O数量已翻倍至2048个。据报道，HBM4已放宽至775微米。厚度标准松动后，

混合键合技术在下一代HBM上的全面应用可能比预期进一步延迟。

混合键合技术直接连接DRAM芯片间的铜线，导热硅冷却元件嵌入D2D PHY层，JEDEC正在讨论将HBM5的厚度标准从当前的775微米放宽至最高约1000微米。在封装内部加入独立热柱，这进一步延缓了混合键合的规模化部署。可从堆叠内部带走热量。短期内混合键合不会大规模部署，不过混合键合的研发并未停滞。称可较现有产品降低超过30%热阻。有助于减小HBM厚度并改善散热。

目前客户和内存制造商并未积极讨论16层HBM的问题。三星开发了HPB热通道模块，

而HBM3E标准厚度为720微米，

SK海力士则推出iHBM技术，混合键合的无凸点减薄优势不再紧迫。即使到HBM4E阶段，12层产品仍极有可能被用作主流产品。